(相关资料图)
1、1.ASML--荷兰2.尼康--日本3.佳能--日本4.SMEE--中国拓展资料：光刻机又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等。
2、常用的光刻机是掩膜对准光刻，所以叫 Mask Alignment System.一般的光刻工艺要经历硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘、刻蚀等工序。
3、光刻意思是用光来制作一个图形（工艺）；在硅片表面匀胶，然后将掩模版上的图形转移光刻胶上的过程将器件或电路结构临时“复制”到硅片上的过程。
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